Ryor Aknestop Maska na čierne bodky 100 ml
| určenie: | Problematická |
Maska s obsahom komplexu ovocných kyselín účinne redukuje výskyt čiernych bodiek a zároveň sťahuje Póry.Vďaka obsahu kyseliny hyalurónovej je pleť hydratovaná.
- s komplexom ovocných kyselín
- redukuje čierne bodky a sťahuje Póry
- s kyselinou hyalurónovou
Aplikujte lokálně a cíleně na problematické partie, nechte působit 5-10 minut, následně zbytky masky smyjte vodou nebo pleťovým tonikem dle typu pleti. Během aplikace se může projevit lehké pálení, které rychle odezní. Vzhledem k odstranění svrchní vrstvy pokožky je nutné alespoň 5 dní po aplikaci používat denní krém s UV ochrannou (např. Duo-aktivní krém SPF 15).
Aqua, Glycerin, Hydrogenated Polyisobutene, Hydroxyethyl Acrylate/Sodium Acryloyldimethyl Taurate Copolymer, Sodium Lactate, Glycolic Acid, Sucrose, Urea, Sodium Citrate, Malic acid, Tartaric Acid, Sodium Hyaluronate, Phenoxyethanol, Ethylhexylglycerin.
Aplikujte max. 1x týdně. Maska není vhodná pro velmi citlivé typy pleti. V kosmetických salonech je vhodná aplikace před hlubokým čištěním pleti.
Táto položka nebola doposiaľ diskutovaná. Ak chcete byť prvý, kliknite na tlačidlo Pridať príspevok
| určenie: | Problematická |
Maska s obsahom komplexu ovocných kyselín účinne redukuje výskyt čiernych bodiek a zároveň sťahuje Póry.Vďaka obsahu kyseliny hyalurónovej je pleť hydratovaná.
- s komplexom ovocných kyselín
- redukuje čierne bodky a sťahuje Póry
- s kyselinou hyalurónovou
Aplikujte lokálně a cíleně na problematické partie, nechte působit 5-10 minut, následně zbytky masky smyjte vodou nebo pleťovým tonikem dle typu pleti. Během aplikace se může projevit lehké pálení, které rychle odezní. Vzhledem k odstranění svrchní vrstvy pokožky je nutné alespoň 5 dní po aplikaci používat denní krém s UV ochrannou (např. Duo-aktivní krém SPF 15).
Aqua, Glycerin, Hydrogenated Polyisobutene, Hydroxyethyl Acrylate/Sodium Acryloyldimethyl Taurate Copolymer, Sodium Lactate, Glycolic Acid, Sucrose, Urea, Sodium Citrate, Malic acid, Tartaric Acid, Sodium Hyaluronate, Phenoxyethanol, Ethylhexylglycerin.
Aplikujte max. 1x týdně. Maska není vhodná pro velmi citlivé typy pleti. V kosmetických salonech je vhodná aplikace před hlubokým čištěním pleti.
